电信学院微电子教研室
半导体制造技术
by Michael Quirk and Julian Serda
半导体制造技术
西安交通大学微电子技术教研室
第十八章
封装与装配
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by Michael Quirk and Julian Serda
目 标
通过本章的学习, 将能够,
1,描述装配和封装的总趋势与设计约束条件;
2,说明并讨论传统装配方法;
3,描述不同的传统封装的选择;
4,讨论 7种先进装配和封装技术的优势与限制 。
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引 言
? 在制造工艺完成时, 通过电测试的硅片准备进行
单个芯片的装配和封装 。 这些在最终装配和封装
中进行, 被称为集成电路制造过程的后道工序 。
? 最终装配和封装在集成电路后道工序是两个截然
不同过程, 每个都有它特殊的工艺和工具 。 在传
统工艺中, 集成电路最终装配从硅片上分离出每
个好的芯片并将芯片粘贴在金属引线框架或管壳
上, 用细线将芯片表面的金属压点和提供芯片电
通路的引线框架内端互连起来, 最终装配后, 集
成电路是将芯片封装在一个保护管壳内 。
? 现在最常用的封装是塑料包封芯片, 这种塑料包
封提供环境保护并形成更高级装配连接的管脚 。
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传统装配与封装
硅片测试和拣选
引线键合
分片
塑料封装 最终封装与测试
贴片
Figure 20.1
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集成电路封装的 4个重要功能
1,保护芯片以免由环境和传递引起损坏;
2,为芯片的信号输入和输出提供互连;
3,芯片的物理支撑;
4,散热
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典型 IC 封装形式
四边形扁平封装
(QFP)
无管脚芯片载体
(LCC)
塑料电极芯片载体
(PLCC)
双列直插封装
(DIP)
薄小型封装
(TSOP)
单列直插封装
(SIP)
Figure 20.2
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关于集成电路封装形式
性能
? RC 时间延迟
? 输入 / 输出 ( I /O ) 的个数
? 压焊和粘贴
? 信号上升时间
? 频率响应
? 开关瞬态
? 热
尺寸 / 重量 / 外形
? 芯片尺寸
? 管壳尺寸
? 压点尺寸和间距
? 管壳引线尺寸和间距
? 衬底载体压点尺寸和间距
? 散热设计
材料
? 芯片基座 ( 塑料、陶瓷或金属 )
? 载体 ( 有机物、陶瓷 )
? 热膨胀失配
? 引线金属化
成本
? 集成到现有工艺
? 管壳材料
? 成品率
装配
? 芯片粘贴 方式
? 封装粘贴 ( 通过孔、表面贴装或凸点 )
? 散热装配
? 包封
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集成电路封装层次
第二级封装
印刷电路板装配
第一级封装,
IC 封装
最终产品装配,
电路板装到系统
中的最终装配
为在印刷电路板上
固定的金属管脚
管脚
管脚插入
孔中然后
在 PCB
背面焊接
表面贴装
芯片被焊
在 PCB的
铜焊点上,
边缘连接电极插入主系统
PCB组件
主电子组件板
电极
Figure 20.3
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传统装配
最终装配由要求粘贴芯片到集成电路底座
上的操作构成 。 由于制造的大部分成本已经花
在芯片上 。 因此在最终装配过程中成品率是至
关重要的 。 在 20世纪 90年代后期, 所有集成电
路装配中估计有 95% 采用了传统的最终装配,
并由下面 4步构成,
? 背面减薄
? 分片
? 装架
? 引线键合
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背面减薄
? 最终装配的第一步操作是背面减薄 。 在前端制
造过程中, 为了使破损降到最小, 大直径硅片
相应厚些 ( 300mm的硅片是 775μm 厚 ) 。 然而
硅片在装配开始前必须减薄 。 通常被减薄到
200~ 500μm 的厚度 。 较薄的硅片更容易划成小
芯片并改善散热, 也有益于在装配中减少热应
力 。
? 使用全自动化机械进行背面减薄 ( 见下图 ) 。
背面减薄被精细的控制, 使引入到硅片的应力
降到最低 。 在某些情况下, 背面减薄后, 在背
面在淀积金属, 用于改善到底座的导电率以及
芯片共晶焊 。
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背面减薄示意图
转动和摆动秆
转动卡盘上
的硅片
向下施加力
板仅在硅片转换
角度过程中转动
Figure 20.4
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硅片锯和被划硅片
硅片

锯刃
Figure 20.5
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装片用的典型的引线框架
芯片 引线 引线框架
塑料 DIP
Figure 20.6
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芯片粘结
? 环氧树脂粘贴
? 共晶焊粘贴
? 玻璃焊料粘贴
? 环氧树脂粘贴 是将芯片粘贴到引线框架或基
座上最常用的方法 。 环氧树脂被滴在引线框架
或基座的中心, 芯片贴片工具将芯片背面放在
环氧树脂上 ( 见下图 ) 。 接下来是加热循环以
固化环氧树脂 。
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环氧树脂粘贴
芯片
环氧树脂
引线框架
Figure 20.7
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共晶焊粘贴
共晶定义使它的熔点降至最低的熔态混
合 。 然后用合金方法将金粘接到基座上, 基
座通常或是引线框架或是陶瓷基座 ( 90% 以
上的 Al2O3) 。 典型地, 基座有一个金或银的
金属化表面 。 当加热到 420℃ 约 6秒钟时芯片
和框架之间形成共晶合金互连 。
共晶贴片提供了良好的热通路和机械强
渡 。 对于双极集成电路共晶焊粘贴技术更普
遍 。
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Au-Si 共晶贴片
Silicon
Gold film
金 /硅共晶
合金
Al2O3
Figure 20.8
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引线键合
引线键合是将芯片表面的铝压点和引线框
架上的电极内端 ( 有时称为柱 ) 进行电连接最
常用的方法 ( 见下图 ) 。 引线键合放置精度通
常是+ 5μm 。 键合线或是金或是铝, 因为它在
芯片压点和引线框架内端压点都形成良好键合
,通常引线直径是 25~ 75μm 之间 。 三种基本引
线键合的叫法各取自在引线端点工艺中使用的
能量类型 。 三种引线键合方法是,
? 热压键合
? 超声键合
? 热超声球键合
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从芯片压点到引线框架的引线键合
压模混合物
引线框架 压点
芯片
键合的引线
管脚尖
Figure 20.9
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芯片到引线框架的引线键合
Photo 20.1
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热压键合

器件压点
Figure 20.10
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超声线键合顺序
引线
楔压劈刀
(1)
劈刀向上移动
导给劈刀
更长的引
线
(3)
超声能
压力
引线框架
(4)
劈刀向上移动
在压点旁将
引线折断
(5)
(2)
Al 压点
超声能
压力
芯片
Figure 20.11
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热超声球键合
(2)
H2 火焰

(1)
金丝
毛细管
劈刀
(5)
压力和加热
形成压点
引线框架
(6)
劈刀向上移动
在压点旁将
引线折断
在压点上
的焊球
压力和
超声能
芯片
(3)
劈刀向上
移动并导
入更长的
引线
Die
(4)
Figure 20.12
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引线键合拉力试验

器件
测试中的芯片

样品卡
Figure 20.13
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传统封装
IC有许多传统封装形式, 封装必须保护芯片免
受环境中潮气和沾污的影响及传运时的损坏 。 IC封
装形成了在引线框架上互连到芯片压点的管脚, 它
们用于第二级装配电路板 。 芯片压点的间距范围从
60~ 115μm 。 引线框架电极从该压点间距扇出到用
在电路板上更大的压点间距 。
在早期是普遍的金属壳封装, 现在它仍然用于
分立器件和 SSI。 芯片被粘贴在镀金头的中心, 并
用引线键合到管脚上 。 在管脚周围形成玻璃密封,
一个金属盖被焊到基座上以形成密封 。 例子是金属
TO型 ( 晶体管外形 ) 封装, 如图所示 。 两种最广
泛使用的传统 IC封装材料是,
? 塑料封装
? 陶瓷封装
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TO-型金属封装
Figure 20.14
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塑料封装
从引线框架上去除连接边
芯片
引线框架
连接边
连接边
去除线
Figure 20.15
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双列直插封装 (DIP)
Figure 20.16A
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单列直插封装 (SIP)
Figure 20.16B
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薄小型封装 (TSOP)
( 用于存储器和智能卡)
Figure 20.16C
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双列存储器模块 (SIMM)
Figure 20.16D
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四边形扁平封装 (QFP)
Figure 20.16E
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具有 J型管脚的塑料电极芯片载体 (PLCC)
Figure 20.16F
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无引线芯片载体 (LCC)
Figure 20.16G
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陶瓷封装
陶瓷封装被用于集成电路封装, 特别是目
前应用于要求具有气密性好, 高可靠性或者大
功率的情况 。 陶瓷封装有两种方法:耐熔 ( 高
熔点 ) 陶瓷;薄层陶瓷 。
耐熔陶瓷基座是集成电路封装常用的, 它
由氧化铝粉和适当的玻璃粉及一种有机媒质混
合而构成浆料, 浆料被铸成大约 1密耳厚的薄
片, 干化, 然后制作布线图案以制成一个多层
陶瓷基座 ( 见下图 ) 。 用户连线电路被淀积在
单层上, 用金属化通孔互连不同的层 。
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分层耐熔陶瓷加工顺序
陶瓷互连层
4层分层
Figure 20.17
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陶瓷针栅阵列( PGA)
Courtesy of Advanced Micro Devices
Photo 20.2
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薄层陶瓷
CERDIP 封装
陶瓷盖
玻璃密封
陶瓷基座
金属管脚
环氧树
脂和引
线框架
上的芯

剖面
标志槽
横截平面
Figure 20.18
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终测
所有装配和封装芯片都要进行最终电测试
以确保集成电路质量 。 测试与硅片分类时所做
的功能测试相同 。 集成电路芯片处理器要在自
动测试设备上进行单个芯片测试 。 集成电路处
理器迅速将每个集成电路插入测试仪的电接触
孔 。 小而有弹性的针, 被称为弹簧针, 使管壳
上管脚实现电接触以便进行电学测试 。
具有数量多的输入 / 输出管脚和管壳占面积
小的先进集成电路封装对于终测造成挑战 。 专
用的测试固定装置, 通常称为接触件或管座,
用于进行集成电路管壳上管脚和自动测试仪上
接触针之间的电连接 ( 见下图 ) 。
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为 IC管壳准备的测试管座
Figure 20.19
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先进的装配与封装
先进的集成电路封装设计包括,
? 倒装芯片
? 球栅阵列 (BGA)
? 板上芯片 (COB)
? 卷带式自动键合 (TAB)
? 多芯片模块 (MCM)
? 芯片尺寸封装 (CSP)
? 园片级封装
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倒装芯片
倒装芯片是将芯片的有源面 ( 具有表面键
合压点 ) 面向基座的粘贴封装技术 。 这是目前
从芯片器件到基座之间最短路径的一种封装设
计, 为高速信号提供了良好的电连接 。 由于它
不使用引线框架或塑料管壳, 所以重量和外形
尺寸也有所减小 。
倒装芯片技术使用的凸点--通常有 5% Sn
和 95% pb组成的锡 /铅焊料, 以互连基座和芯片
键合压点 ( 见下图 ) 。 通常用的焊料凸点工艺
被称为 C4( 可调整芯片支撑的工艺 ) 。
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倒装芯片封装
压点上的焊
料凸点 硅芯片
基座
连接管座
金属互连
通孔
Figure 20.20
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硅片压点上的 C4焊料凸点
回流
工艺
金属淀
积和刻

第二层金属淀积
Sn
Pb
(3)
在回流过程
中焊球形成
(4)
Oxide
氮化硅 Al
压点
(1)
第三层复合金属
Cu-Sn
Cr+Cu
Cr
(2)
Figure 20.21
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倒装芯片的环氧树脂填充术 关于倒装芯片
可靠性的一个重要问题是硅片和基座之间热膨胀
系数 ( CTE) 失配 。 严重的 CTE失配将应力引入
C4焊接点并由于焊接裂缝引起早期失效 。 通过在
芯片和基座之间用流动环氧树脂填充术使问题得
以解决 ( 见下图 ) 。
焊料凸点
芯片
环氧树脂
基座
Figure 20.22
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倒装芯片面阵焊接凸点与引线键合 因为倒装芯
片技术是面阵技术, 它促进了对封装中更多输入 /
输出管脚的要求 。 这意味着 C4焊料凸点被放在芯
片表面的 x-y格点上, 对于更多管脚数有效利用了
芯片表面积 。
压点周
边阵列
倒装芯片凸
点面阵列
Figure 20.23
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具有球栅阵列( BGA)的芯片
Photo 20.3
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球栅阵列

引线
基座
金属通孔
焊球
芯片
压点
环氧树脂
热通孔
Figure 20.24
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板上芯片 (COB)
IC 芯片 印刷电路板
Figure 20.25
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卷带式自动键合 (TAB)
聚合物条带
铜引线
Figure 20.26
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多芯片模块 (MCM)
MCM 基座 单个芯片
Figure 20.27
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芯片尺寸封装
集成电路封装设计追求在增强电性的同时追
求更低的成本, 更轻的重量以及更薄的厚度 。 在
20世纪 90年代集成电路封装接近于硅芯片相同尺
寸范围的发展, 导致芯片尺寸封装的概念 。 芯片
尺寸封装 ( CSP) 的一般定义是小于芯片战地面
积 ( 表面积 ) 1.2倍的集成电路封装形式 。 由于
CSP封装和芯片有大致相同的尺寸, 尤其是当芯
片采用面阵列凸点技术时, 它使第二级电路板表
面积得以有效利用, 当今主要的 CSP封装技术是
前面讨论的倒装芯片和 BGA法, 因为两者都采用
了凸点互连 。 更进一步, CSP包括基座上的多芯
片, 它包含了 MCM的概念 。 倒装是一种发展的最
快的先进封装方法 ( 见下图 ) 。
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先进的封装趋势
1996 2001 1997 1998 1999 2000 0
1800
600
900
1200
1500
300
直接芯片粘贴
板上倒装芯片
卷带式转动键合
其他
单位(百万)
Years
Figure 20.28
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芯片尺寸封装的差异
一般 CSP 法 CSP 封装名称 Co m p an y
面阵列,凸点式 C SP Am k o r / An a m
S m al l o u tli n e n o - lead /C - lead ( SON/SO C ) Fu j its u
B u m p ch ip ca r r ier ( B C C ) Fu j its u
Mic r o - s t u d - ar r a y ( MS A ) Hitach i
B o tto m lead ed p last ic ( B L P ) L G Se m ico n
Qu ad f lat n o - lead ( QFN) Ma ts u s h ita
Me m o r y C SP T I J ap an
定制引线框架
Qu ad o u tli n e n o n - lead ed T o s h ib a
E n h a n ce d f le x C SP 3M
FleXB G A Am k o r / An a m
FB GA Fu j its u
C h ip - on - f le x C SP GE
Mu lti c h ip s ca le p ac k a g e ( MC SP ) Hig h tec MC AG
C SP f o r m e m o r y d ev ice s Hitach i
I Z M f lex P A C Fra u n h o f er I n s tit u te
Mo ld ed B all Gr id A r r a y Mits u b is h i E lectr ic
C h ip - on - f le x C h ip Size P ac k a g e Mo to r o la Sin g ap o r e
Fin e - p itc h B GA ( FP B G A ) NE C
在芯片和基座之间的插线板
(带互连的柔性材料)
Mic r o B GA T ess er a
C h ip A r r a y P ac k a g e ( C A B G A) Am k o r / An a m
C SP C y p r es s Se m ico n d u c to r
C er a m ic m i n i - B G A I B M
M o ld ed ar r ay p r o ce s s C SP Mo to r o la
P last ic ch ip ca r r ier Natio n al
C SP Ok i E lectr ic
T r an s f o r m ed g r id ar r a y p ac k a g e So n y
刚性基座
C er a m ic /p last ic f i n e - p itc h B G A T o s h ib a
Table 20.2
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园片级封装
目前为止, 所有将芯片上压点和基座上标
准压点连接的集成电路装配与封装都是在由硅
片上分离出来的芯片上进行的 。 这种工艺造成
了前端硅片制造工艺与生产最终集成电路的后
端装配和封装间的自然脱离 。 为了增加生产效
率同时获得更低成本, 在 20世纪 90年代后期开
发了园片级封装 。 园片级封装是第一级互连和
在划片前硅片上的封装 I/O端的形式 ( 见下图 )
。 许多封装设计师都建议对于园片级封装要使
用倒装芯片的材料和工艺技术 。
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园片级封装
具有 C4 凸点的单个芯片
Figure 20.29
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C4 凸点硅片
Photograph provided courtesy of Advanced Micro Devices
Photo 20.4
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园片级封装的设计概念
芯片
附着材料
连接引线
焊接球
Figure 20.30
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标准测试流程与园片级封装测试流程比较
WLP 制造
园片级老化
园片级
功能测试
划片
园片级拣选
板上装配
硅片级封装测试流程
装入卷带
和卷轴
硅片探测
划片
封装单个
集成电路
管壳级的
管座 /老化
管壳级的
功能测试
标准测试流程
Figure 20.31
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园片级封装特征与优势
参数 优势
管壳尺寸
在 x 和 y 尺度管壳等于芯片面积。它是集成电路封装中的最小最轻的
可能性封装
安装后封装高度 它是极薄型,第二级装配后从电路板表面测量总高度 < 1.0 m m
组件可靠性 测试结果表明园片级封装组件已通过对现有无源组件的可靠性测试
焊接点可靠性 测试结果表明焊接点可靠性满足标准热循环 ( - 65 t o 1 25 ? C ) 可靠性测试
电学性能
电学模拟测试表明,芯片面朝下(倒装芯片)的园片级封装结构具有
短的电路路径,由于使电感和金属寄生电容损失最小,导致了非常好
的电性能。
与现有 SM T 基础
结构的集成
园片级封装可以与现有的表面贴装技术兼容,并使用标准的焊料球及
球间距
抗 α 粒子
在封装材料中天然存在的放射性元素反射 α 粒子,它能引起存储器单
元电压损失。聚合物带和薄膜粘贴为存储器芯片提供抗 α 粒子
低系统成本
为降低系统总成本,使用与硅片集成的现有材料减少装卸和硅片测试
的策略,以最少化重复测试
Table 20.3
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Chapter 20 Review
? Quality Measures 596
? Troubleshooting 597
? Summary 597
? Key Terms 598
? Review Questions 598
? Equipment Suppliers’ Web Sites 599
? References 600