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§ 4-6 提高配位滴定选择性的方法
一, 选择性滴定可能性判断
当 M与 N两种金属离子共存时, 它们均可与 EDTA配
位, 要准确滴定 M,而 N离子不干扰 。 经推导计算
,得：
?lgK?5 (CM>CN)
若不能满足条件, 要采用方法提高滴定的选择性 。
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二, 提高配位滴定选择性的途径
1,掩蔽和解蔽法提高配位滴定的选择性
M与 N共存, 都能与 EDTA配位, 但又不满足选择
滴定的要求, 在这种情况下, 需加入一种合适的试
剂, 先与干扰离子作用, 以消除干扰, 这种方法为
掩蔽法, 所加试剂称为 掩蔽剂 。
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常用的掩蔽法：
(1)配位掩蔽法
(2)沉淀掩蔽法
(3)氧化还原掩蔽法
（ 1）配位掩蔽法
加入某种配位剂作掩蔽剂与 N离子
形成稳定的配合物，从而降低溶液中 N
离子的浓度，达到选择性滴定 M的目的。
例如 在 Al3+,Zn2+两种离子共存的溶液
中测定 Zn2+。
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（ 2）沉淀掩蔽法
沉淀掩蔽法：加入某种沉淀剂，使 N
离子生成沉淀，以降低其浓度，这种
方法为沉淀掩蔽法。
例如 在 Ca2+,Mg2+共存的溶液中，测
定 Ca2+的含量。
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（ 3）氧化还原掩蔽法
加入某种氧化剂或还原剂使与
N离子发生氧化还原反应，改变其
价态，使原价态的 N离子浓度降低，
从而可选择性滴定 M，这种掩蔽方
法称为氧化还原掩蔽法。
例如 有 Fe3+存在时，测定 Bi3+等
离子的含量。
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（ 4）解蔽作用
利用一种试剂，使已被掩蔽剂掩蔽的金属
离子释放出来，这一过程称为解蔽。
例如 测定铜合金的锌和铅。
2.应用其他配位剂提高配位滴定的选择性